Equipamento spin-coater de baixo custo para deposição de filmes finos

A presente invenção apresenta o desenvolvimento de um equipamento de baixo custo para deposição e obtenção materiais em forma de filmes finos e ultrafinos de dimensões nanométricas e com características nanoestruturais, pelo método de spin-coating. O grande interesse deve-se à potencialidade de aplicação desses materiais na indústria eletroeletrônica, para o desenvolvimento de tecnologia de alta integração, com a miniaturização de seus componentes, usando os materiais obtidos pela técnica de spin-coating. Além dos aspectos tecnológicos, firma-se ainda como aspecto relevante, a necessidade de suprir uma lacuna na pesquisa brasileira com o desenvolvimento de tecnologias de baixo custo para produzir materiais em forme de filmes finos e ultrafinos de excelente qualidade.

Titular: UFT e UFU

Inventores: Elton Carvalho de Lima e José de los Santos Guerra

Status: Pedido de INVENÇÃO depositado junto ao INPI

Nº do Pedido: BR 20 2019 010361-8

Data do depósito: 21/05/2019